Nyderlandai – Laboratorinė, optinė ir precizinė įranga (išskyrus akinius) – European Tender Two Parallel Plate Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Systems

Nyderlandai – Laboratorinė, optinė ir precizinė įranga (išskyrus akinius) – European Tender Two Parallel Plate Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Systems

I dalis: Perkančioji organizacija

I.1) Pavadinimas ir adresai:

Oficialus pavadinimas: Universiteit Twente
Adresas: Drienerlolaan 5
Miestas: Enschede
Pašto kodas: 7522NB
Šalis: Nyderlandai
Asmuo ryšiams:
El-paštas: c.delfgaauw@utwente.nl
Interneto adresas (-ai):
Pagrindinis adresas: https://www.utwente.nl

II dalis: Objektas

II.1.1) Pavadinimas:

European Tender Two Parallel Plate Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Systems
Nuorodos numeris: EB-OUT 6685

II.1.2) Pagrindinis BVPŽ kodas:

38000000 Laboratorinė, optinė ir precizinė įranga (išskyrus akinius)

II.1.3) Sutarties tipas:

Kita

II.1.4) Trumpas aprašymas:

The University of Twente is tendering to purchase two new Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition systems. The MESA+ Institute will invest in two new systems for deposition of (doped) dielectric thin films to upgrade and reinforce their state-of-the-art thin film technology and processing capacity. The systems will be used for moderate-temperature deposition of low stress thin films. For the following materials:   silicon dioxide (SiO2) boron-doped SiO2 (BSG) phosphorus-doped SiO2 (PSG) boron-phosphorus-doped SiO2 (BPSG) low-stress silicon nitride (SiNx) silicon oxynitride (SiOxNy) amorphous silicon (aSi)

II.2) Aprašymas:

II.2.1) Kitas (-i) šio pirkimo BVPŽ kodas (-ai):

38000000 Laboratorinė, optinė ir precizinė įranga (išskyrus akinius)